用溅射的方法来进行表面成膜的优点是()。

时间:2022-08-14 19:44来源:未知作者:admin 点击: 次

6. 用溅射的方法来进行表面成膜的优点是()。 A. 比真空蒸镀的应用面广，对熔点高、蒸汽压低的元素也同样适用 B. 膜层在基片上附着力强 C. 仅限于使用金属靶或电阻率在10Ω?cm以下的非金属靶 D. 薄膜的生长速度太慢

6. 用溅射的方法来进行表面成膜的优点是()。

A. 比真空蒸镀的应用面广，对熔点高、蒸汽压低的元素也同样适用

B. 膜层在基片上附着力强

C. 仅限于使用金属靶或电阻率在10Ω?cm以下的非金属靶

D. 薄膜的生长速度太慢

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